NH3氨氣烘箱 氨氣真空系統 氨氣圖形反轉爐

NH3氨氣烘箱 氨氣真空系統 氨氣圖形反轉爐用途：

   在光刻膠的處理過程中，調整其極性對于實現精確的圖形轉移至關重要。氨氣作為一種有效的極性調節劑，在光刻膠中發揮著關鍵作用。使得光刻膠在半導體、光學器件及生物芯片等制造領域能夠更精準地適應圖形轉移的需求，提升產品的制造質量和精度。氨氣通過其化學性質，在光刻膠中發揮著調整極性、優化圖形轉移效果的重要作用，是微細制造領域的關鍵材料之一。

   氨氣真空烘烤系統廣泛應用于新材料（如超材料、表面工程）、前沿物理研究（如超導、量子）、仿生（功能性表面）、光子（微納光學、光波導、光子晶體）、生物（DNA測試、納流控）、微電子等研究領域，以及3D結構光器件、光子芯片、高功率芯片等加工領域。

NH3氨氣烘箱 氨氣真空系統 氨氣圖形反轉爐技術性能：

容量：2-12寸晶圓或方片兼容，可定制

溫度范圍： RT-200℃

真空度： ≤100pa

控制儀表： 人機界面+PLC

氣路控制： 多氣路控制

真空泵： 高品質渦旋無油泵

保護裝置： NH3監測保護，超溫保護，漏電保護等

NH3氨氣烘箱 氨氣圖形反轉爐特點：

具有重復性好

更加穩定

環保，對人體無害的顯著優點

也可用于其它硅烷沉積工藝的處理